成套电子束光刻系统 德国

• 型   号：JKY/Raith150-two
• 价   格：

成套电子束光刻系统 德国 型号:JKY/Raith150-two

订购留言

分享到：

成套电子束光刻系统 德国 型号:JKY/Raith150-two

库号：M319546

仪器介绍　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　[下载样本] 纳米技术研究和开发需要通用和灵活的仪器设备，的性能、多用户管理能力、以及仪器的可靠和易用性是对这类设备的关键要求。自动化对于小批量生产来说则是须的。成套电子束光刻系统 德国 型号:JKY/Raith150-two

* Raith150-two是纳米技术研究中心理想的电子束光刻（电了束曝光、电子束直写）工具。
* e-LiNE是一个灵活的电子束光刻（曝光、直写）和纳米加工平台，并集成了一些殊的可以满足不同学科要求的功能。
* ionLiNE是一个新奇的离子束光刻和加工设备。作为真正的纳米结构书写器，可以在广阔的领域得到令人振奋的应用。
* Pioneer 高分辨经济型电子束光刻设备

Raith150-two是可以应用于晶片级电子曝光同时拥有*分辨率的电子束光刻设备。并是纳米技术研究中心理想的电子束直写工具。并可设定为自动光刻流程并具有mix&match曝光功能。
Raith150-two应用在半导体工业的新器件生产和新流程工艺中。作为专业的光刻系统，Raith150-two包括了所有例如高度感应和晶片高度测量等相应功能。强大的晶片自动化曝光管理功能可以使所有要的校准和曝光方案互相配合

e_LiNE 是一款适合大学和其他学术研究机构的有着*分辨率的电子束光刻系统和纳米加工平台。
可选的如纳米操纵探针、EBID（电子束诱导沉积）、EBIE（电子束诱导刻蚀）等扩展功能使得e_LiNE成为多功能的纳米加工平台。的电子透镜系统极其适合一些关键性的应用，例如CNT （碳纳米管）的研究、薄膜工程、光子晶体和EBID（电子束诱导沉积）。 型号:JKY/Raith150-two

ionLiNE是为在表面科学、薄膜工程和应用物理研究等低剂量应用设计的集离子束光刻、纳米制造和纳米工程为一体的新奇的纳米工作平台。
按照精确的纳米光刻系统结构设计，代表了新一代研究和开发仪器水平。
ionLiNE作为的离子束光刻、制备和加工设备，为研究工作者获得激动人心的结果提供了极其难得的机会。拥有自主的NanoFIB TM光学系统提供了和自动图形制作所需的隔夜束流稳定性。低的束斑拖尾保证了高的性。集成的激光干涉控制的样品台，可为大面积的加工应用提供便利。

Pioneer 同样是一款高分辨的电子束曝光机, 用于操作2英寸及以下的样品。2nm分辨率的激光干涉工件台，大大满足了高精度拼接及套刻的要求。完善的扫描电镜功能方便了曝光后的成像观察及尺寸度量。

分类:囯际直购